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真空電鍍(PVD)的基本原理

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真空電鍍(PVD)的基本原理

分類:
行業新聞
發布時間:
2015/06/10
【摘要】:
真空電鍍(PVD)的基本原理  惰性氣體或反應氣體電離為氣體離子,氣體離子因靶(所謂靶是IP電  鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動,轟擊固體靶材表麵進行能量  交換,使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子,在電場加速運動下產生  物理氣象沉積(PVD)於所電鍍產品表麵,形成電鍍層。  PVD表麵處理特點是:  1、光澤度好  2、無鎳環保  3、延長基本壽命1~2年

  真空電鍍(PVD)的基本原理

  惰性氣體或反應氣體電離為氣體離子,氣體離子因靶(所謂靶是IP電

  鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動,轟擊固體靶材表麵進行能量

  交換,使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子,在電場加速運動下產生

  物理氣象沉積(PVD)於所電鍍產品表麵,形成電鍍層。

  PVD表麵處理特點是:

  1、光澤度好

  2、無鎳環保

  3、延長基本壽命1~2年